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二硫化钨靶材WS2磁控溅射靶材

2021-11-10 02:21:01  698次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用二硫化钨靶材WS2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

二硫化钨(WS2)为灰色带金属光泽的细小结晶或粉末,属于六方晶系,有半导体性和抗磁性,天然矿物为辉钨矿;层状结构,易解离,有与石墨类似的润滑性质。在自然界出现为辉钨矿,为深灰色斜方系晶状固体。微溶于冷水,溶于热水,密度7.6g/cm³;有还原性。可用作润滑剂,性能比二硫化钼好,摩擦系数较低,抗压强度较大;单独用于高温、高压、高转速、高负荷,以及在化学性活泼介质中运转的设备;与其他物料配置的锻压、冲压润滑剂,能延长模具寿命,提高产品光洁度;与聚四氟乙烯和尼龙等配置的填充材料,可用于制自润滑部件;还可以在石油化工领域中用做催化剂,其优点是裂解性能高,催化活性稳定可靠,使用寿命长。

产品参数

中文名二硫化钨 化学式WS2

分子量247.97 熔点1250℃

密度 7.6g/cm3 纯度 99.9%

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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