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二氧化钒靶材VO2磁控溅射靶材

2021-11-10 02:30:01  531次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用二氧化钒靶材VO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

二氧化钒(VO2)为深蓝色晶体粉末,单斜晶系结构,不溶于水,易溶于酸和碱中,溶于酸时生成正二价的钒氧离子,密度为4.260g/cm³,熔点为1545 ℃。用作玻璃、陶瓷着色剂;二氧化钒在材料世界以其迅速和突然的相变而显得与众不同,其相变温度为68℃,相变前后结构的变化导致对红外光由透射向反射的可逆转变,人们根据这一特性将其应用于制备智能控温薄膜领;二氧化钒所具有的导电特性让其在光器件、电子装置和光电设备中具有广泛的应用潜力;由于其优异的导电特性,也同时应用于电子器件。

产品参数

中文名二氧化钒 化学式VO2

分子量82.94 熔点 1545 ℃

密度 4.260g/cm3

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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